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衬底电阻率、片电阻

Filmetrics R54-系列
高级方块电阻测试仪

Filmetrics R54-系列

推荐理由:
● 自动化测量
● 金属膜和背面工艺层厚度测量
● 衬底电阻率、片电阻等电性能测试
● 可选配接触式四点探头和非接触式涡流探头
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系统优势

·密闭系统有助于测量光灵敏或环境敏感样品
·可容纳最大直径为300毫米的样品
·可配置四探针(4PP)或非接触式涡流(EC)模式
·15毫米的最大样品高度
·方块电阻测量范围覆盖十个量级
·可以使用矩形、线性、极坐标和自定义配置等采样点排列方式进行测绘
·第高精度X-Y样品台
·业内较小的涡流测量尺寸
·易于使用的软件界面
·兼容所有KLA方块电阻探针

 

 

R54四探针和涡流测量方法

四探针(4PP)和涡流(EC)是测量方块电阻的两种常用技术。R54在接触式四探针方法上覆盖了10个电阻量级范围,并配置了高分辨率和高灵敏度的非接触式涡流方法,延续了KLA的创新历史和优势地位。

 

四探针概述

四探针提供了一种简单而直接的电阻测量方法。在所测导电层与衬底之间有一个非导电阻挡层时,由四个导电引脚组成的探针在受控的力的作用下接触导电层表面。标准引脚配置在两个外侧引脚上施加电流,并测量两个内侧引脚上的电压。为测量方块电阻,导电层厚度应小于探针引脚间距的1/2。KLA开创了R54双配置技术,可交替测量不同引脚上的电压,对边缘效应应用动态校正并纠正引脚间距误差。KLA为导电薄膜或离子注入层提供多种的探针配置,以优化表面材料特性的测量。

 

涡流概述

涡流是一种非接触式的导电薄膜的方块电阻测量技术。在线圈中施加变化的电流以产生变化的磁场。当线圈靠近导电表面时,变化的磁场会在导电表面中感应变化的(涡流)电流。这些涡流反过来产生自己的变化的磁场,该磁场与探针线圈藕合,产生与样品的方块电阻成正比的信号变化。KLA独特的涡流解决方案使用单侧(上部)探针,在每个测量点动态调整探针到样品的高度,这对于测量的准确度和再现性至关重要。涡流方法不受表面氧化的影响,同时也是不太适合四探针接触式方法的较软样品的理想选择。

 

四探针与涡流方法之间的关系

KLA四探针和涡流解决方案在各自的常用范围内都表现出良好的相关性。Filmetrics R54使用KLA先进的校准方法,
来确保四探针和涡流技术的测量精度。

市场分类和应用

汽车

太阳能

LED

半导体

电路板

平板显示器

学术研究

 

晶圆加工

·金属化层
·晶圆掺杂变化
·衬底表征
·离子注入变化分布
·激光退火表征技术

 

技术

·金属沉积
·柔性衬底表征
·薄膜电导率
·分布图

 

研发及其他应用

·金属薄膜
·柔性薄膜电阻率
·可穿戴设备
·过滤网
·可充电电池
·多层薄膜表征

Filmetrics® R50-系列
电阻率测试仪 四探针台

Filmetrics® R50-系列

推荐理由:
● 薄膜 衬底电阻率 片电阻测试
● 金属膜和背面工艺层厚度测量
● 衬底电阻率、片电阻等电性能测试
(可选配接触式四点探头和非接触式涡流探头)
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