系统优势

·密闭系统有助于测量光灵敏或环境敏感样品
·可容纳最大直径为300毫米的样品
·可配置四探针（4PP)或非接触式涡流（EC)模式
·15毫米的最大样品高度
·方块电阻测量范围覆盖十个量级
·可以使用矩形、线性、极坐标和自定义配置等采样点排列方式进行测绘
·第高精度X-Y样品台
·业内较小的涡流测量尺寸
·易于使用的软件界面
·兼容所有KLA方块电阻探针

R54四探针和涡流测量方法

四探针（4PP）和涡流（EC）是测量方块电阻的两种常用技术。R54在接触式四探针方法上覆盖了10个电阻量级范围，并配置了高分辨率和高灵敏度的非接触式涡流方法，延续了KLA的创新历史和优势地位。

四探针概述

四探针提供了一种简单而直接的电阻测量方法。在所测导电层与衬底之间有一个非导电阻挡层时，由四个导电引脚组成的探针在受控的力的作用下接触导电层表面。标准引脚配置在两个外侧引脚上施加电流，并测量两个内侧引脚上的电压。为测量方块电阻，导电层厚度应小于探针引脚间距的1/2。KLA开创了R54双配置技术，可交替测量不同引脚上的电压，对边缘效应应用动态校正并纠正引脚间距误差。KLA为导电薄膜或离子注入层提供多种的探针配置，以优化表面材料特性的测量。

涡流概述

涡流是一种非接触式的导电薄膜的方块电阻测量技术。在线圈中施加变化的电流以产生变化的磁场。当线圈靠近导电表面时，变化的磁场会在导电表面中感应变化的（涡流）电流。这些涡流反过来产生自己的变化的磁场，该磁场与探针线圈藕合，产生与样品的方块电阻成正比的信号变化。KLA独特的涡流解决方案使用单侧（上部）探针，在每个测量点动态调整探针到样品的高度，这对于测量的准确度和再现性至关重要。涡流方法不受表面氧化的影响，同时也是不太适合四探针接触式方法的较软样品的理想选择。

四探针与涡流方法之间的关系

KLA四探针和涡流解决方案在各自的常用范围内都表现出良好的相关性。Filmetrics R54使用KLA先进的校准方法，
来确保四探针和涡流技术的测量精度。

市场分类和应用

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学术研究

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·金属化层
·晶圆掺杂变化
·衬底表征
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技术

·金属沉积
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·分布图

研发及其他应用

·金属薄膜
·柔性薄膜电阻率
·可穿戴设备
·过滤网
·可充电电池
·多层薄膜表征